輝達點名 碳化矽中介層將成先進封裝新熱點

發布時間:2025/09/04 18:32:40
更新時間:2025/09/04 18:32:40
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圖、文/財訊雙週刊

 由於輝達急於快速拉高GPU效能,晶片內連結記憶體和GPU的中介層,材料將由矽轉為碳化矽,這將是台灣碳化矽產業的新機會。


輝達點名  碳化矽中介層將成先進封裝新熱點
輝達點名 碳化矽中介層將成先進封裝新熱點(圖/財訊提供 )

 過去幾個月,台灣半導體產業的碳化矽產業鏈快速升溫,原因竟和輝達有關。

今年5月,全球碳化矽龍頭Wolfspeed宣布破產,但是,同一個月,環球晶董事長徐秀蘭卻表示,環球晶將和客戶共同開發碳化矽新產品。加碼碳化矽市場的不止環球晶,格棋化合物半導體公司董事長張忠傑也透露,目前公司正積極開發新產品,而這項產品可用於半導體先進製程。

《財訊》採訪得知,當全球碳化矽供應鏈因中國大擴產陷入寒冬時,台灣碳化矽產業卻因為輝達對GPU性能無止境的需求,得到一個新機會。因為輝達新一代Rubin處理器的開發藍圖中,為了提昇效能,計畫把矽中介層的材料,由矽換成碳化矽。

如果把CoWoS封裝做出來的IC比喻成一棟大樓,把輝達的GPU比喻成大樓裡的工廠,矽中介層的作用,就像是大樓的樓板,除了承載輝達的GPU,還可以串連旁邊的高性能記憶體,讓資料可以在GPU和記憶體之間快速移動。目前,一塊矽中介層裡會配置一顆GPU和多顆記憶體。

這棟大樓的基地,則是原有的載板,一塊載板上的空間足以擺上好幾棟這樣的「大樓」,透過載板交換訊號,最後再封裝成一顆晶片。

張忠傑透露,目前半導體先進製程正在研究,要將原本用矽製造的矽中介層換成用碳化矽製造,因為未來高階晶片計畫的功耗高達1000伏特!相比之下,特斯拉快充時的電壓,也只有350伏特。

業界人士觀察,目前輝達是最積極要採用這項技術的公司,因為,輝達的NVLink技術特性是,GPU和記憶體距離愈近,傳輸速度愈快,GPU的功率愈高,效能也愈好,未來輝達甚至計畫要把GPU和記憶體疊在一起,用極大的電流驅動,由於碳化矽的導熱係數比銅還要好,能有效緩解大電流產生的高熱,因此被輝達看上。

不過,碳化矽如果拿來做中介層,要求和傳統的碳化矽不同,業界人士分析,晶圓廠是把碳化矽當作中介層材料,因此,傳統碳化矽產業在意的結構瑕疵,對製造中介層時影響並不大,但關鍵在切割技術,碳化矽硬度和鑽石相當,如果切割技術不佳,碳化矽的表面會呈波浪狀,無法用於先進封裝。

此外,用絕緣的單晶碳化矽製造矽中介層,導熱效果最好,且必須要和現有的矽晶圓一樣大,由於目前中國碳化矽製造商多半只能製造6吋和8吋的碳化矽晶圓,因此投資製造更大的單晶碳化矽晶圓產線,也就成為台灣廠商和中國競爭者差異化的重點。

《財訊》引述業界人士觀察,目前台積電邀集各國廠商共同研發碳化矽中介層的製造技術,但切割設備大廠如日本DISCO正在研發新一代雷射切割機台,因此,輝達的Rubin GPU第一代仍會採用矽中介層,等新設備到位,碳化矽中介層製造會更為順利,但由於輝達對效能進步的要求極高,當晶片內產生的熱超過極限,就必須採用碳化矽,「最晚後年,碳化矽就會進入先進封裝。」

由於這項技術目前只用在最尖端的AI晶片上,台灣供應鏈會優先選用中國之外的碳化矽晶圓,這項技術將是台灣碳化矽廠商的新機會。……(更多精彩內容,詳見《財訊》雙週刊

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