快新聞／突破封鎖？中國驚傳已自主製造「原型光刻機」　恐衝擊全球科技業

即時中心／林耿郁報導

半導體業必爭的關鍵工具「光刻機」，已被中國成功破解並複製了嗎？目前傳出深圳一處高度戒備的實驗室內，已成功打造一台可產生極紫外光（EUV）的半導體光刻機原型，象徵中國距離「自主製造」尖端晶片，可能比外界預期的更加接近達標。

技術突破？路透社獨家報導指出，這台由中國自行研製的光刻初號機，體積佔滿一整座工廠樓層，由多名前荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）工程師參與研發。他們透過逆向工程方式，重建EUV光刻技術。

消息人士透露，該設備已能成功產生極紫外光，但尚未實際生產可用晶片。

EUV光刻機被視為當代「科技冷戰」的核心。該技術可在矽晶圓上，刻蝕出比人類頭髮細數千倍的電路，是製造AI、智慧型手機及先進武器晶片的關鍵，目前技術長期由西方國家壟斷。

今（2025）年4月，ASML執行長傅凱（Christophe Fouquet）曾公開表示，中國仍需「非常多年」才能掌握EUV技術。

不過，這項首次曝光的原型機消息顯示，中國可能比各界原先預估的更加接近目標。

知情人士指出，現階段中國仍面臨「重大技術瓶頸」，尤其是在精密光學系統方面，尚無法完全複製德國蔡司（Carl Zeiss）等西方供應商的水準。

中國政府目標在2028年，在該原型機上製造可用晶片，但內部評估較務實的時間點，可能落在2030年左右。

這項突破被視為中國為實現半導體自主的國家級計畫成果之一。儘管中國自主半導體戰略早已不是秘密，但深圳EUV計畫一直高度保密。

該計畫隸屬於中國半導體總體戰略，由習近平親信、中央科技委員會主任丁薛祥主導；華為扮演關鍵協調角色，整合全國數千名工程師、企業與研究機構。

科技業核彈！中國若成功自主製造光刻機　恐對全球產業造成衝擊

多名知情人士形容，這項行動堪比中國版的「曼哈頓計畫（Manhattan Project）」，目標是最終以「全中國製造」設備生產先進晶片，徹底破除美國與西方對中的科技封鎖。

目前全球僅ASML獨家掌握EUV光刻技術，一台設備要價2.5億美元（約79億新台幣）起跳，是台積電、英特爾、三星等先進晶片製造商不可或缺的工具。

ASML自2001年製作首台EUV原型機起，歷經近20年與數十億歐元研發，才於2019年正式商用銷售。

美國自2018年起施壓荷蘭政府，阻止ASML向中國出售EUV設備，並於2022年進一步擴大出口管制，包括較舊的深紫外（DUV）光刻機，也不准銷往中國，試圖讓中方晶片製造能力落後至少一個世代；ASML則表示，公司從未向中國出售任何EUV設備。

至於中國是如何製作這台初號機的？疑似是透過回收二手市場上的舊ASML設備零組件，以及透過中介管道取得部分管制零組件，加上前工程人員幫助，逐步拼湊出這台原型機。

且為確保光刻機計畫「絕密」，參與計畫的前ASML工程師們，被要求使用化名、假證件。部分華為研究人員長期駐守園區內工作，還被限制對外聯繫，內部團隊之間也彼此隔離，全面防堵消息走漏。

有分析師擔心，一旦中國製造出自己可用的光刻機，恐對全球高科技產業帶來巨大海嘯。